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高校研究院實驗室膠體磨

簡要描述:高校研究院實驗室膠體磨 ,實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力

  • 產(chǎn)品型號:GM2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-21
  • 訪  問  量:1109
詳情介紹

高校研究院實驗室膠體磨,試驗室膠體磨,小型膠體磨,德國實驗室膠體磨,高轉(zhuǎn)速實驗室膠體磨

 

        此款實驗室膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上,研磨效果非常好,z高轉(zhuǎn)速可以達到21000RPM。


高校研究院實驗室膠體磨的研磨效果

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點:

1.膠體磨磨頭頭的剪切速率(越大,效果越好)

2.膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

3.物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

4.循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,便不能再好)

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60

 

       實驗室膠體磨 ,實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

                  
       實驗室膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,實驗室中試型膠體磨用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。


? GM2000/4實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 
實驗室膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。實驗室膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

 

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